一、 設計基礎

1.1本方案涉及的流程及設備是為了滿足：生產工藝用水項目，要求如下：

1.1.1產水用途：半導體用水

1.1.2系統(tǒng)總進水量：預處理：10.0m³/hr

1.1.3系統(tǒng)出力：一級RO純水處理：6.0m³/hr；回收率：60%；

二級RO純水處理：5.0m³/hr；回收率：85%；

15%的濃水回流至一級RO純水系統(tǒng)

EDI純水處理：5.0m³/hr；回收率: 90%；

10%的濃水回流至二級RO純水系統(tǒng)

1.1.4終端產水水質：拋光混床電阻率：≥18MΩ.CM

                     TOC≤10μg/L

                     微粒子數(shù):0.1μm以上≤10個/ml

                     細菌個/ml≤0.01

1.1.5運行方式：自動運行（并具備手動操作功能）。